2026年3月1日、米半導体大手のマイクロン・テクノロジーの日本法人マイクロンメモリジャパンが、広島県東広島市の工場拡張に向けた造成工事を開始したと報じられた。AI向け高性能メモリーの量産を見据え、最大1.5兆円規模の投資が進む見通しだ。
広島で次世代メモリー量産へ投資
今回の造成工事は、東広島市にある広島工場西側の土地で始まった。開発面積は約9.5ヘクタールに及び、工事期間は2028年2月までとされている。開発許可を申請したのはマイクロンメモリジャパンで、建設される施設の用途は工場などと示されている。
関係者によると、同社は2029年度までに次世代DRAM（※）やAI向け高性能メモリーの量産体制を整える計画である。投資総額は約1兆5千億円規模となり、経済産業省が最大5360億円を助成する予定だ。生成AIの普及によりデータセンター向け半導体需要が急増しており、その供給体制を日本国内で強化する狙いがあるとみられる。
地元自治体も支援姿勢を強めている。東広島市は道路や産業団地などのインフラ整備を進める方針で、半導体産業の拠点形成を後押しする構えだ。地域経済への波及を期待する声も広がっている。
※DRAM：データを一時的に記憶する半導体メモリーの一種。高速処理が可能で、AI計算やデータセンター、パソコンなど幅広い電子機器に使われている。近年は生成AIの普及により需要が急増している。
地域成長と競争激化の分岐点
この投資は、日本の半導体戦略にとって大きな追い風になる可能性がある。AI時代では高性能メモリーの確保が不可欠であり、国内で量産拠点が拡大すれば供給の安定や関連企業の集積が進むと考えられる。地域雇用や産業基盤の強化にもつながる公算が大きい。
一方で、巨額の公的支援を伴う点は議論を呼ぶ余地がある。半導体市場は景気変動の影響を受けやすく、需要の変化次第では投資回収が長期化する可能性も否定できない。また、世界各国が同様の補助政策を進めており、国際競争はさらに激しくなる見込みだ。
それでも、AI市場の拡大が続く限り、高性能メモリーの重要性は増していく。今回の広島投資が成功すれば、日本がAI半導体の供給拠点として存在感を高める契機になると言える。
