メタバースのデザイン保護へ向けた意匠制度見直しが本格化　特許庁、クリエイター負担軽減にも配慮

2025年4月3日に開催された産業構造審議会知的財産分科会（第18回意匠制度小委員会）にて、メタバース上のデザイン保護に関する議論が進められた。今後の制度見直しでは、仮想空間におけるデザイン模倣への対応と、スタートアップや個人クリエイターの創作負担軽減の両立が焦点となる見通しである。

制度改正の焦点　「仮想空間の保護」と「クリアランス負担の軽減」

現在、メタバース市場の急成長が、仮想空間内におけるデザインの模倣や権利侵害のリスクを浮き彫りにしている。
特に、ゲームやバーチャルイベント、企業のプロモーション活動に活用される3Dモデルやインターフェースデザインなどが容易に模倣される状況が続いている。
現行の著作権法や不正競争防止法では、こうした「仮想空間における意匠の保護」が限定的であることから、実効性ある法制度の整備が求められてきた。

今回、特許庁が示した「意匠制度見直しを行う場合の制度的措置の方向性③」は、物品の形状を示す画像について、「たとえ操作画面やUIでなくとも意匠権（※1）の保護対象に含める」とするものであった。
これにより、メタバース内の衣装、建築、プロダクトなどの3Dデザインも対象になる可能性がある。
ただし、画像に対する意匠権が物品自体に及ばないとする点が、権利範囲の明確化に一定の効果をもたらすと考えられる。

※1 意匠権：物品や画像などの「形状・模様・色彩」に関する創作を保護する権利であり、第三者による模倣や使用を一定期間排除できる法的制度を指す。

今後の展望とクリエイターへの影響

制度改正の方向性が明確になり実施されれば、デザインの保護範囲が明確になり、クリエイターが安心して創作に取り組める環境が整う可能性がある。

しかし同時に、他者の権利を侵害しないようなクリアランス調査（※2）が必要になることは、創作活動の自由を制限する要因にもなり得る。特に、個人クリエイターや資金力の乏しいスタートアップにとっては、調査負担が大きく、表現の萎縮が懸念されている。
特許庁はそのバランスに配慮し、保護対象となる画像の明確化や、意匠の類似性を判断する基準、効率的な検索環境の整備などを検討中だ。ユーザー視点での柔軟性と明確性のバランスが求められるだろう。また、制度改正がどのような創作活動に影響を及ぼすのか、明確なルール作りと同時に、クリエイターが適切に情報へアクセスできる環境構築も不可欠だと思われる。
将来的には、AIを活用した自動クリアランスツールの導入や、登録意匠データベースのオープン化も視野に入るだろう。

メタバースにおける経済活動は今後さらに加速すると予測されており、デザイン保護制度の整備はその土台を支える重要なインフラになると思われる。デジタル上での創作が現実のビジネスに直結する時代において、法制度が柔軟かつ先進的であることは、グローバル競争力の向上にもつながるはずだ。
今後の「意匠制度見直し」がどのような動向を見せるのか、今後も注目していきたい。

※2 クリアランス調査：特定のデザインや画像が既存の登録意匠と権利的に重複していないかを確認する事前調査のこと。商品化前の確認作業として広く用いられる。

参考：「意匠制度に関する検討課題について」
https://www.jpo.go.jp/resources/shingikai/sangyo-kouzou/shousai/isho_shoi/document/18-shiryou/03_shiryo-1.pdf