2026年7月4日、米マイクロン・テクノロジーは、広島県東広島市の広島工場で新たなクリーンルームの建設に着手したと発表した。AI向け先進メモリの需要拡大を見据えた投資であり、経済産業省の支援を受けながら、日本の半導体製造基盤と供給体制の強化を進める。
広島工場を最大規模で増強、AIメモリ需要に対応
マイクロンは広島工場で約2万8,000平方メートルの新クリーンルームを段階的に建設する。総合建設パートナーは株式会社フジタが務め、2028年後半から製造装置の搬入を開始する予定だ。プロジェクトは経済産業省による最大5,360億円の支援を受け、AI向け先進メモリの国内生産能力を高める。
今回の施設は、マイクロンが2013年にエルピーダメモリを買収して以来、広島拠点では最大規模のクリーンルーム増設となる。AIの普及によって需要が急増するDRAMやHBM（※1）の供給力を強化するほか、同拠点で培ってきたEUV（※2）露光技術を活用した次世代メモリの量産基盤としても位置付けられている。
起工式には経済産業省や広島県、東広島市の関係者に加え、マイクロン経営陣が出席した。同社は、日本をグローバル製造ネットワークの重要拠点と位置付け、AI時代のメモリ供給体制を支える役割をさらに強化する方針を示している。
※1 HBM（High Bandwidth Memory）：複数のDRAMを積層し、高速・大容量のデータ転送を実現する先進メモリ。生成AI向けGPUなどで需要が急増している。
※2 EUV（極端紫外線露光）：極めて短い波長の光を用いて微細な半導体回路を形成する製造技術。最先端半導体の量産に不可欠とされる。
日本の半導体競争力向上に期待、需要変動は課題
今回の投資は、日本の半導体産業にとって生産能力の拡大だけでなく、地域経済やサプライチェーンへの波及効果も期待される。マイクロンは地域企業や学術機関との連携を深める方針を示しており、将来的には1,000人以上の雇用創出への貢献も見込まれている。
また、AI向けメモリの製造拠点が国内で強化されることは、経済安全保障の観点からも一定の意義があると考えられる。世界的なAI開発競争が続くなか、日本が先進メモリの供給網で存在感を維持する後押しになる可能性がある。
一方で、AI市場の成長鈍化や半導体市況の変動によって、大規模投資の収益性が左右されるリスクも残る。今後は設備投資を着実に生産拡大へ結び付けられるかが注目点となる。日本の半導体戦略を占う重要なプロジェクトとして、今後の進展が注目されそうだ。
関連記事：
